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   旋转刻蚀 的翻译结果: 查询用时:0.012秒
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旋转刻蚀
相关语句
  rotation etching
     The Influence of Fabrication Error in Ion Beam Rotation Etching on Uniform Illumination
     离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响
短句来源
     An ion beam rotation etching technique used for manufacture of diffractive optical elements with continuous relief structure is introduced in the paper.
     介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。
短句来源
  “旋转刻蚀”译为未确定词的双语例句
     MethodsTheprocedureofphacoemulsi-ficationwithsmalincision(6mm)intraocularlensimplantationwasimprovedandwasperformedon40eyesof40cases.
     方法对40例(40只眼)白内障施行超声乳化小切口(6mm)人工晶体植入术,并采用周边旋转刻蚀法对硬核性白内障顺利完成手术。
短句来源
     The principle and process of the design diffractiv e optical elements using this new method, and the composition of the etching sy stem, and design method of the mask are introduced.
     结果表明 ,这种新的工艺方法不拘泥于圆对称系统 ,不但继承了离子束旋转刻蚀工艺的位相真正连续分布的优势 ,而且所制作出的衍射光学元件 ,即使对于半导体激光器所产生的两个方向发散角不同的激光束来说也仍然可以进行整形 ,并最终能得到矩形焦斑。
短句来源
     The experimental results show that the duty cycle of gratings can be considerably improved through the following techniques: designing the grating mask with small duty cycle, erasing the resist arris at the substrate edge to eliminate the refraction effect when doing UV lithography and rotating the tilted substrate when doing ion beam etching.
     实验结果表明,通过设计较小占空比的光栅掩模、紫外光刻时擦除基片边缘的光刻胶棱以消除衍射效应、离子束刻蚀时基片倾斜一定的角度旋转刻蚀等措施可以改善自支撑金莫尔光栅的占空比。
短句来源
  相似匹配句对
     Ion Beam Etching
     离子束刻蚀
短句来源
     Plasma Etching
     等离子体刻蚀
短句来源
     Spin Control
     旋转控制
短句来源
     ELLIPTIC REVOLUTION
     椭圆旋转
短句来源
     The Influence of Fabrication Error in Ion Beam Rotation Etching on Uniform Illumination
     离子束旋转刻蚀工艺误差对均匀照明的影响
短句来源
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ObjectiveToinvestigatethecharacteristicsofphacoemulsificationofcataractinourcountryandmanagementandpreventionofitscomplications.MethodsTheprocedureofphacoemulsi-ficationwithsmalincision(6mm)intraocularlensimplantationwasimprovedandwasperformedon40eyesof40cases.Theyhadbeenfolowedupfor3~6monthspostoperativelyandtheirfolow-upresultsweresummarized.ResultsTheuncorrectedvisualacuity1.0orbeterwasin57.5%,0.8orbeterin82.5%and0.5orbetterin97.5%.Thepostoperativemeanastigmatismwas0.50±0.25D,whichwaslessthanthatinthelargeincisiongroup(9~12mm)performedon40casesinthesameperiod(P<0.001).Cataractwithhardnucleuscanbesuccessfulytakenoutbythetechniqueofperipheralrotationengravingmethod.ConclusionTheoperationisasafereliableoneforrestorationofvisualacuityinpatientswithcataract,andissuperiortoextracapsularcataractextraction....

ObjectiveToinvestigatethecharacteristicsofphacoemulsificationofcataractinourcountryandmanagementandpreventionofitscomplications.MethodsTheprocedureofphacoemulsi-ficationwithsmalincision(6mm)intraocularlensimplantationwasimprovedandwasperformedon40eyesof40cases.Theyhadbeenfolowedupfor3~6monthspostoperativelyandtheirfolow-upresultsweresummarized.ResultsTheuncorrectedvisualacuity1.0orbeterwasin57.5%,0.8orbeterin82.5%and0.5orbetterin97.5%.Thepostoperativemeanastigmatismwas0.50±0.25D,whichwaslessthanthatinthelargeincisiongroup(9~12mm)performedon40casesinthesameperiod(P<0.001).Cataractwithhardnucleuscanbesuccessfulytakenoutbythetechniqueofperipheralrotationengravingmethod.ConclusionTheoperationisasafereliableoneforrestorationofvisualacuityinpatientswithcataract,andissuperiortoextracapsularcataractextraction.

目的研究白内障超声乳化术的特点、并发症及防治措施,总结了一组白内障超声乳化术的操作改进及随访结果。方法对40例(40只眼)白内障施行超声乳化小切口(6mm)人工晶体植入术,并采用周边旋转刻蚀法对硬核性白内障顺利完成手术。结果术后3~6个月,裸眼视力≥1.0者占57.5%;≥0.8者占82.5%;≥0.5者占97.5%。术后平均散光为0.50±0.25D,小于同期内施行的40例大切口(9~12mm)对照组(P<0.001)。结论该手术不失为一种优于白内障囊外摘除术且安全、可靠的复明手术。

An ion beam rotation etching technique used for manufacture of diffractive optical elements with continuous relief structure is introduced in the paper. The simulation calculation for the influence of ion beam non-uniformity in the technological system and the alignment error between substrate and mask center on device properties is carried out. The process improvement scheme is proposed according to the simulation analysis for errors.

介绍一种离子束旋转刻蚀工艺,该工艺可用于制作真正意义上连续位相分布的衍射光学元件。对工艺系统中离子束不均匀度和基片与掩模板中心对准误差对器件性能的影响作了模拟计算,并根据对误差的模拟分析提出了工艺改进方案。

A novel ion beam moving etching technology used to fabricate diffractive optical elements (DOE) is presented. The principle and process of the design diffractiv e optical elements using this new method, and the composition of the etching sy stem, and design method of the mask are introduced.

提出了一种用于制作二维光束整形衍射光学元件的新方法———离子束平动刻蚀工艺。分别介绍了利用这种新方法设计衍射光学元件的原理、设计过程以及刻蚀工艺系统的构成和掩模板的设计方法。结果表明 ,这种新的工艺方法不拘泥于圆对称系统 ,不但继承了离子束旋转刻蚀工艺的位相真正连续分布的优势 ,而且所制作出的衍射光学元件 ,即使对于半导体激光器所产生的两个方向发散角不同的激光束来说也仍然可以进行整形 ,并最终能得到矩形焦斑。这种工艺方法的理论设计也可以从二维化简为两个一维的设计 ,从而大大简化了设计计算的复杂程度

 
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