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电子束直
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  “电子束直”译为未确定词的双语例句
     This preamplifier has been fabricated using 0.2 μm GaAs-based pHEMT EB direct writing T-shaped gate technology and tested at a data rate of 10 Gbit/s.
     电路采用0.2μmGaAs基pHEMT电子束直写T型栅工艺制作。 对制作的电路进行了电测试,可工作于10Gbit/s的速率。
短句来源
     Applications of process technology of EB direct-writing gate and T-shape gate
     电子束直写直栅和T形栅工艺技术应用
短句来源
     Technology of Electron Beam Write Wafer
     电子束直写圆片技术
短句来源
     the detail structure,fabrication process andcost of nanometer X-ray mask are analyzed,for 100 nmnode and below,the fabrication difficulty and cost of X-ray mask are low relatively,and with the development of E-beam direct writing ability,X-ray mask is moresuperior toits contender;
     分析了纳米X射线掩模的具体结构、制作工艺和成本,相对于其竞争对手,在100 nm节点及其以下,X射线掩模的制造难度和成本是比较低的,而且随着电子束直写X射线掩模能力的进一步提高,X射线掩模更具优势;
短句来源
     Two different fabrication methods, the way of e-beam direct writing and the way of holographic exposure, were compared theoretically and experimentally.
     在此基础上,发展了电子束直写掩模曝光和光学全息曝光两种制作BSG的方法,分析比较了两种方法的优缺点,并进行了实验验证。
短句来源
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     Computer-generated Hologram Fabricated by Electron-beam Direct-writing
     电子束写计算全息图
短句来源
     Technology of Electron Beam Write Wafer
     电子束写圆片技术
短句来源
     COLLECTION OF ELECTRON BEAM
     电子束的收集
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     ELECTRON BEAM CALORIMETERS
     电子束量热计
短句来源
     The Direct Sum of Fuzzy Rings
     Fuzzy环的
短句来源
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    我想查看译文中含有:的双语例句
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Proximity effect is an important factor which limits optical lithography resolution, and

邻近效应是限制光刻系统分辨力的一个重要因素,它也限制了激光直写在亚微米和亚半微米光刻中的应用。分析了激光直写邻近效应产生的原因,指出它和电子束直写及投影光刻的区别,提出了一种简便有效的邻近校正方法。实验表明,通过光学邻近校正(OPC),利用微米级激光直写系统,制作出了0.6μm的实用光刻线条

In this paper, the principle of electron beam write wafer is discussed briefly dis-tinguish topography mark, and make the technology of wafer mark which is found by the electron beam exposure system.

本文扼要介绍了电子束直写圆片的原理,地形标记的识别,以及电子束曝光系统能识别的圆片标记的制造技术。

Binary optics is called“90's optics technique”·^It shows wider application prospect in national defence,scientific research and production.There are many manufacturing methods for DOE. The BOE manufacture and laser or electron beam writing are much riper methods.The BOE manufacture has disadvantages of long period ,high cost and difficult alignment.Expensive machine is needed in the laser and electron beam writing process.It is suited to manufacture single element with high precision.In this paper,another promising...

Binary optics is called“90's optics technique”·^It shows wider application prospect in national defence,scientific research and production.There are many manufacturing methods for DOE. The BOE manufacture and laser or electron beam writing are much riper methods.The BOE manufacture has disadvantages of long period ,high cost and difficult alignment.Expensive machine is needed in the laser and electron beam writing process.It is suited to manufacture single element with high precision.In this paper,another promising method is presented.That is gray?scale mask method.Also,its prospect is introduced.

二元光学被誉为“1 990年代的光学技术” ,在国防、科研、生产等领域都显示出广阔的应用前景。衍射光学元件有很多制作方法 ,比较成熟的有二元光学元件加工方法和激光或电子束直写技术加工方法。二元光学元件加工方法存在周期长、成本高且对准较困难的缺点。激光或电子束直写技术所需设备比较昂贵 ,只适合高精度单件生产。介绍了近来发展起来的另一种比较有前途的加工方法一灰度掩模法 ,并展望了其发展前景。

 
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